VS steunt EUV startup van Pat Gelsinger met 150 miljoen dollar
Het Amerikaanse ministerie van Handel (Department of Commerce) heeft een intentieverklaring getekend om tot 150 miljoen dollar te verstrekken aan xLight, een startup uit Palo Alto die zich richt op extreme ultraviolet (EUV) lithografie. Het bedrijf, geleid door de voormalige Intel-topman Pat Gelsinger (foto), ontvangt de subsidie via de CHIPS and Science Act.
De financiering is bedoeld voor de ontwikkeling en demonstratie van een prototype van een vrije-elektronenlaser (FEL) als alternatieve lichtbron voor EUV-lithografie, een cruciaal proces voor de productie van de meest geavanceerde chips (sub-7 nm) zo meldt The Register.
In ruil voor de overheidssteun zal het ministerie van Handel een aandelenbelang van $150 miljoen verwerven in xLight. De VS wil hiermee de afhankelijkheid van buitenlandse technologie verminderen; de Nederlandse chipmachinefabrikant ASML is momenteel de absolute marktleider op het gebied van EUV.
Volgens Pat Gelsinger zal de ontwikkeling van een energie-efficiënte EUV-laser met tienvoudige verbeteringen "het volgende tijdperk van de Wet van Moore" inluiden en tegelijkertijd een cruciale binnenlandse capaciteit ontwikkel
Meer over chips
Over Witold Kepinski
